Opis
Zaawansowana aparatura dla techniki osadzania cienkich warstw przy pomocy lasera pulsacyjnego (PLD) nadaje się do wzrostu m.in. warstw ferromagnetycznych, tlenków ceramicznych, materiałów nadprzewodzących w wysokich temperaturach oraz wielowarstw metalicznych.
W komorze procesowej znajduje się manipulator 6 targetów z materiałami do osadzania na podłożu. Stacja odbiorcza manipulatora podłoży jest przeznaczona do próbek o średnicy do 3 cali, z opcją chłodzenia/ogrzewania i obracania. Zautomatyzowany lub ręczny system transferowania umożliwia bezproblemowe przenoszenie targetów i substratów ze śluzy załadowczej do manipulatorów w komorze procesowej.
Komora procesowa wyposażona jest w kołnierze przyłączeniowe w standardzie UHV do montażu obecnych i przyszłych urządzeń, takich jak:
- laser,
- manipulator podłoża z szerokim zakresem temperaturowym,
- manipulator targetów,
- źródło jonowe z zasilaczem do czyszczenia, trawienia lub aktywacji podłoża,
- systemu pompowania,
- próżniomierz z wyposażeniem,
- port wejściowy dla transferu liniowego lub walizki próżniowej,
- wagi kwarcowej z wyposażeniem do pomiaru grubości osadzania cienkich warstw i przesuwem liniowym,
- dyfraktrometr RHEED/TorrRHEED z oprzyrządowaniem,
- zautomatyzowana lub manualna przesłona liniowa służącą do wykonywania warstw klinowych lub masek,
- dodatkowy system dozowania gazów np. reaktywnego procesu,
- okna obserwacyjne z przesłonami,
- analizator gazów resztkowych,
- monitor strumienia wiązki,
- podgrzewane okna dla urządzeń diagnostycznych.
W razie potrzeby modułowa konstrukcja aparatury umożliwia łączenie i integrację z dowolną inną platformą badawczą za pośrednictwem radialnej komory dystrybucji lub transferu tunelowego do przenoszenia próbek. Ostateczna funkcjonalność i wygląd zależy od konfiguracji aparatury.
System pompowania w połączeniu ze standardową objętością komory procesowej pozwala osiągnąć ciśnienie bazowe w zakresie 1×10-8 – 5×10-11 mbar, w zależności od konfiguracji pomp próżniowych. System pompowania to połączenie różnych typów pomp, np. pomp próżni wstępnej, pompy jonowej, pompy kriogenicznej, pompy turbomolekularnej lub tytanowe pompy sublimacyjnej, indywidualnie dobierane w celu uzyskania najlepszej wydajności pompowania zgodnie z określonymi wymaganiami aplikacji.
Oprogramowanie sterujące procesem Synthesium umożliwia integrację i doskonałą współpracę źródeł różnych typów i producentów, a także umożliwia łatwe pisanie receptur, automatyczną kontrolę wzrostu cienkich warstw i obszerną rejestrację danych. Umożliwia integrację nowych dodatkowych komponentów opartych na platformie Open Source Tango.
System wyposażony jest w zaawansowane, łatwe w obsłudze zasilacze i urządzenia elektroniczne sterujące i wspomagające źródła oraz całą aparaturę badawczą.
