Zapytaj o produkt

Systemy iPLD

Zaawansowane autonomiczne stanowisko do nanoszenia warstw nanostrukturalnych metodą ablacji laserowej przeznaczone do wytwarzania i monitorowania w czasie rzeczywistym warstw nanostrukturalnych. Zapewnia w pełni automatyczny proces nanoszenia materiału metodą ablacji laserowej. Za pomocą stanowiska stanowiącego rezultat projektu możliwe jest między innymi tworzenie nanowarstw wielofunkcyjnych, ochronnych, przestrzennych.

Przeczytaj artykuł

SKU: 442-2 Kategoria:

Cechy

  • Rozpylanie materiałów metodą ablacji laserowej w szerokim zakresie warunków środowiskowych
  • Przygotowanie podłoża do nanoszenia cienki warstw, poprzez jego podgrzanie do wysokich temperatur 1200°C, również w atmosferze gazów reaktywnych (np. tlenu)
  • Stabilizacja ciśnienia w szerokim zakresie wartości od 5×10-10 do 10 mbar
  • Szybka metoda charakteryzacji nanoszonych warstw poprzez integrację sterowania i obrazowania RHEED
  • Powtarzalność warunków procesowych podczas wytwarzania warstw
  • Standaryzacja w aplikacjach naukowych i przemysłowych
  • Automatyzacja procesu i obsługi z jednego oprogramowania
  • Wertykalna geometria procesu PLD
  • Laser typu EXCIMER lub YAG z układem optycznym
  • 5 osiowy zmotoryzowany manipulator substratu
  • Różne rozmiary nośników dla substratów od 10×10 mm do 2 cali
  • 6-pozycyjny manipulator targetów z systemem wymiany in-situ
  • Rozmiar nośników targetów: 1 lub 2 cale
  • W pełni zautomatyzowany lub manualny system wymiany próbek i targetów
  • Ciśnienie bazowe pomiędzy 1×10-8 – 5×10-11 mbar, w zależności od konfiguracji pomp próżniowych
  • System pompowania (oparty na konfiguracji pomp próżni wstępnej, turbomolekularnej, jonowej i TSP)
  • Próżniomierze z wyposażeniem 
  • Waga kwarcowa z wyposażeniem do pomiaru grubości osadzania cienkich warstw, wraz z przesuwem liniowym 
  • Komora załadowcza dla nośników próbek i targetów
  • Niezawodny i szybki liniowy system transferowania próbek z komory załadowczej do komory procesowej
  • Okna obserwacyjne z przesłonami
  • Układ chłodzenia wodnego z zintegrowaną linią przedmuchu przed wygrzewaniem aparatury
  • Układ wygrzewania aparatury
  • Stabilny, regulowany stelaż aparatury
  • Szafa sterownicza z urządzeniami elektronicznymi zintegrowana ze stelażem

Opis

W komorze procesowej znajduje się manipulator 6 targetów z materiałami do osadzania na podłożu. Stacja odbiorcza manipulatora substratów jest przeznaczona do próbek o średnicy do 2 cali, z opcją chłodzenia/ogrzewania i obracania. Zautomatyzowany lub ręczny system transferowania umożliwia bezproblemowe przenoszenie targetów i substratów ze śluzy załadowczej do manipulatorów w komorze procesowej.

Komora procesowa wyposażona jest w kołnierze przyłączeniowe w standardzie UHV do montażu obecnych i przyszłych urządzeń, takich jak: 

  • laser,
  • manipulator podłoża z szerokim zakresem temperaturowym,
  • manipulator targetów,
  • źródło jonowe z zasilaczem do czyszczenia, trawienia lub aktywacji podłoża,
  • system pompowania,
  • próżniomierz z wyposażeniem,
  • port wejściowy dla transferu liniowego lub walizki próżniowej,
  • waga kwarcowa z wyposażeniem do pomiaru grubości osadzania cienkich warstw, wraz z przesuwem liniowym,
  • dyfraktrometr RHEED/TorrRHEED z oprzyrządowaniem,
  • zautomatyzowana lub manualna przesłona liniowa służącą do wykonywania warstw klinowych lub masek,
  • dodatkowy system dozowania gazów np. do procesu reaktywnego,
  • okna obserwacyjne z przesłonami,
  • analizator gazów resztkowych,
  • monitor strumienia wiązki,
  • podgrzewane okna dla urządzeń diagnostycznych.

Ostateczna funkcjonalność i wygląd zależy od konfiguracji aparatury.

W razie potrzeby modułowa konstrukcja aparatury umożliwia łączenie i integrację z dowolną inną platformą badawczą za pośrednictwem radialnej komory dystrybucji lub transferu tunelowego do przenoszenia próbek.

System pompowania w połączeniu ze standardową objętością komory procesowej pozwala osiągnąć ciśnienie bazowe w zakresie 1×10-8 – 5×10-11 mbar w zależności od konfiguracji pomp próżniowych. System pompowania to połączenie różnych typów pomp, np. pompy próżni wstępnej, pompy jonowej, pompy kriogenicznej, pompy turbomolekularnej lub tytanowej pompy sublimacyjnej, indywidualnie dobierane w celu uzyskania najlepszej wydajności pompowania zgodnie z określonymi wymaganiami aplikacji.

Oprogramowanie sterujące procesem Synthesium umożliwia integrację i doskonałą współpracę źródeł różnych typów i producentów, a także umożliwia łatwe pisanie receptur, automatyczną kontrolę wzrostu cienkich warstw i obszerną rejestrację danych. Umożliwia integrację nowych dodatkowych komponentów opartych na platformie Open Source Tango. 

System wyposażony jest w zaawansowane, łatwe w obsłudze zasilacze i urządzenia elektroniczne sterujące i wspomagające źródła oraz całą aparaturę badawczą.

Opcje

  • Dyfraktrometr RHEED/TorrRHEED z oprzyrządowaniem
  • Źródło jonowe z zasilaczem do czyszczenia, trawienia lub aktywacji podłoża 
  • Zautomatyzowana lub manualna przesłona liniowa służącą do wykonywania warstw klinowych lub masek
  • Czujnik mocy lasera
  • Dodatkowa komora z magazynem próbek
  • Wewnętrzna osłona przed zanieczyszczeniem ściań komory procesowej
  • Wewnętrzna osłona oddzielająca źródła, chroniąca przed zanieczyszczeniem
  • Walizka próżniowa wraz z portem wejściowym w komorze załadowczej
  • Dodatkowy system dozowania gazów np. reaktywnego procesu
  • Analizator gazów resztkowych RGA
  • Monitor strumienia wiązki 
  • Podgrzewane okna dla urządzeń diagnostycznych
  • Pirometr 
  • Elipsometr 
  • Pełna kontrola procesu i aparatury przy pomocy jednostki sterującej PLC i oprogramowania Synthesium

Zastosowania

Stanowisko umożliwia tworzenie nowych materiałów takich jak np.: nanomateriały, nanosensory, implanty, stenty, katalizatory, ogniwa fotowoltaiczne, ogólne magazynowanie energii, stale, stopy lekkie, kompozyty, nadprzewodniki, warstwy antybakteryjne, itd. Może być wykorzystane do prac biomedycznych oraz w pracach nad nowymi rozwiązaniami w mikro- i nanoelektronice, optoelektronice, itd.

Zapytaj o produkt