W dynamicznym świecie nanotechnologii precyzja i innowacja są najważniejsze. Poznaj autonomiczną stację PREVAC iPLD, najnowocześniejsze rozwiązanie dostosowane do osadzania warstw nanostruktur metodą ablacji laserowej. Co wyróżnia ten system?
Uwolnij moc osadzania nanostruktur za pomocą systemu PREVAC iPLD
NOWA AUTONOMICZNA STACJA PREVAC iPLD to zaawansowany, samodzielny system do osadzania warstw nanostrukturalnych metodą ablacji laserowej. Stacja iPLD odpowiada na realne potrzeby rynku, jakimi są poszukiwanie i wdrażanie innowacyjnych technik i technologii tworzenia i testowania obiektów w skali nanometrycznej dla nauki i środowiska przemysłowego. Innowacyjne rozwiązania pozwalają na w pełni automatyczny i programowalny proces nakładania warstw nanostrukturalnych praktycznie natychmiast po rozpakowaniu i podłączeniu stacji do prądu: plug & measure.
Autonomiczna stacja iPLD przeznaczona jest do wytwarzania i monitorowania warstw nanostrukturalnych w czasie rzeczywistym. Zapewnia w pełni automatyczny proces nanoszenia materiału za pomocą ablacji laserowej, dzięki czemu możliwe jest utworzenie wielofunkcyjnych, ochronnych i przestrzennych nanowarstw.
Zaletą jest możliwość pracy w zmiennych warunkach środowiskowych w pełnym zakresie ciśnień od ultrawysokiej próżni (UHV) do kilku milibarów (HP). System wyposażony jest w kilka innowacyjnych rozwiązań. Należą do nich automatyczny manipulator zmieniający położenie nowo powstałego materiału. Manipulacja ta zachodzi w materiale aplikowanym w szerokim zakresie kątowym i liniowym. Dodatkowo dostępna jest zintegrowana, automatyczna przesłone liniowa do warstw klinowych lub masek. System posiada również zintegrowany system kontroli płynności wiązki laserowej. Ponadto system wyposażony jest w centralne oprogramowanie sterujące procesami osadzania. Oprogramowanie to pozwala na prowadzenie i monitorowanie badań z dowolnego miejsca na świecie poprzez bezpieczne łącze internetowe.
System pozwala na personalizację wybranych komponentów, a dzięki modułowej budowie możliwe będzie także poszerzenie zakresu badań, czyniąc go bardziej uniwersalnym. Docelową grupę klientów stanowią przemysłowe i naukowo-badawcze jednostki prowadzące innowacyjne prace w obszarze nanotechnologii.
System umożliwia tworzenie nowych materiałów, takich jak nanomateriały, nanosensory, implanty, stenty, katalizatory, ogniwa fotowoltaiczne, materiały związane z ogólnym magazynowaniem energii, stale, stopy lekkie, kompozyty, nadprzewodniki czy warstwy antybakteryjne. Może znaleźć zastosowanie w pracach biomedycznych oraz w nowych rozwiązaniach z zakresu mikro-, nanoelektroniki i optoelektroniki.
Najważniejsze cechy
- Konstrukcja modułowa: pozwala na personalizację wybranych elementów stacji bez zmiany części centralnej.
- System “Plug & Measure”: architekturę „podłącz i zmierz” zapewnia unikalna kompaktowa konstrukcja, w której cała stacja i wszystkie jej elementy są gotowe do samodzielnego montażu, instalacji i uruchomienia.
- Przygotowanie substratu/podłoża: 5-osiowy manipulator zmienia położenie podłoża/nowego materiału względem nakładanego materiału w szerokim zakresie kątowym i liniowym. Ponadto wyposażony jest w zintegrowaną automatyczną przysłonę liniową do wykonywania warstw lub masek w kształcie klina, które przemieszczają się wraz ze zmianą położenia podłoża. Możliwe jest nagrzewanie do wysokich temperatur dochodzących do 1200 °C. Co ciekawe, proces ten można przeprowadzić w obecności reaktywnych gazów, takich jak tlen, co poszerza możliwości w zakresie składu materiału.
- Wszechstronne osadzanie materiału: wykorzystując najnowocześniejszą technologię ablacji laserowej (przy użyciu lasera ekscymerowego lub Nd:YAG), stacja iPLD umożliwia precyzyjne osadzanie materiałów w szerokim spektrum warunków środowiskowych. Zastosowano zintegrowany system automatycznego sterowania strumieniem wiązki laserowej oraz system optymalizacji wykorzystania materiałów docelowych. Ta wszechstronność zapewnia spójne i niezawodne wyniki nawet w trudnych warunkach. Stanowisko umożliwia także montaż innych źródeł osadzania (np. komórek efuzyjnych), co dodatkowo poszerza zakres i rodzaj tworzonych warstw.
- Automatyzacja wydajności: automatyzacja procesu osadzania w oparciu o predefiniowane receptury, a także umożliwienie generowania własnego “workflow”. Moduły graficzne przedstawiają stan elementów systemu, takie jak Edytor Receptur (XManager) z operacją „przeciągnij i upuść”. Rozszerzone receptury z podrecepturami (makrami) w skrypcie Pythona.
- Stabilizacja ciśnienia: system iPLD może poszczycić się imponującymi możliwościami stabilizacji ciśnienia w zakresie od 5×10-10 do 10 milibarów (mbar) w trybie statycznym i dynamicznym. Tak szeroki zakres pozwala na uzyskanie optymalnych warunków dostosowanych do specyficznych wymagań procesu osadzania materiału.
- Powtarzalność procesu: Aby zapewnić spójność i niezawodność, stacja iPLD utrzymuje ścisłą kontrolę nad warunkami procesu podczas produkcji warstw. Naukowcy mogą polegać na powtarzalności wyników, która jest niezbędna w badaniach naukowych i zastosowaniach przemysłowych.
- Szybka charakterystyka: integracja kontroli i obrazowania RHEED (odbiciowa dyfrakcja elektronów o wysokiej energii) przyspiesza charakteryzację osadzonych warstw. Ta szybka metoda zapewnia badaczom cenny wgląd w strukturę i właściwości materiałów nanostrukturalnych.
- Standaryzacja: system wyznacza nowy standard w nanotechnologii, oferując ujednolicone podejście mające zastosowanie w środowiskach naukowych i przemysłowych. Ta standaryzacja usprawnia procesy, ułatwia współpracę i przyspiesza postęp w tej dziedzinie.