Zapytaj o produkt

Źródło magnetronowe | target 2-calowy

Źródło magnetronowe do nanoszenia cienkich warstw o wysokiej jednorodności w procesie napylania w polu magnetycznym. Przeznaczone do targetów o średnicy 2 cali.

W zależności od wymaganych warunków procesu napylania oferujemy 2 rodzaje źródeł: typ B i C.

Wszystkie typy są w pełni kompatybilne z naszym zasilaczem M600DC-PS, a także wszystkimi innymi zasilaczami DC, RF i pulsacyjnymi DC dostępnymi na rynku.

SKU: 448-1 Kategorie: ,

Źródło typu A

Źródło magnetronowe typu A służy do nakładania cienkich warstw o dużej jednorodności. Źródło jest przystosowane do pracy w warunkach UHV. Dzięki zintegrowanemu systemowi odchylania in situ może być stosowane zarówno w komorach o standardowej, jak i niestandardowej geometrii. Dzięki zastosowaniu przysłony o konstrukcji kopułowej minimalizujemy przestrzeń potrzebną do jej otwarcia.

Kołnierz montażowy DN 63 CF, DN 100 ISO-K *
Maks. moc (tryb DC) 400 W DC **
Maks. moc (tryb RF) 400 W RF **
Maks. napięcie DC 1200 V
Złącze DC/RF typ 7/16
Target:  
     kształt okrągły
     średnica 2″ (50.8 mm) ± 0.2 mm
     grubość 1 – 6 mm
     chłodzenie pośrednie
Przepływ wody min. 1 l/min
Maks. temperatura wody na wlocie < 28 °C
Maks. ciśnienie wody 3 bar
Średnica rurki Ø6×1 mm PTFE
Materiał magnesu Neodymowy borek żelaza (NdFeB)
Maks. temperatura magnesu 200°C
Wewnętrzna przysłona pneumatyczna tak
Typ przysłony kopułowa lub płaska
Moduł odchylania in situ tak, zakres: +45° ÷ -10°
Kominek tak
Typowe prędkości parowania [nm/min] dla 200 W:  
     Cu 40,87 nm/min (odległość: 150 mm; grubość targetu: 3 mm)***
     Ti 10,82 nm/min (odległość: 150 mm; grubość targetu: 3 mm)***
     Fe 15,94 nm/min (odległość: 150 mm; grubość targetu: 1 mm)***
Zintegrowany wlot gazu tak (standard VCR)
Gaz roboczy Ar
Maks. ciśnienie robocze 5×10-3 – 1×10-1 mbar
Optymalne ciśnienie robocze 5×10-3 – 5×10-2 mbar

* Inne kołnierze montażowe dostępne na życzenie
** Maksymalna moc jest zależna od materiału targetu
*** Odległości są zależne od geometrii komory i magnetronów

Źródło typu B

Źródło magnetronowe typu B służy do nakładania cienkich warstw o dużej jednorodności. Źródło przystosowane jest do pracy w warunkach UHV. Źródło przeznaczone jest do napylania materiałów magnetycznych i ferromagnetycznych. Może pracować z targetami o grubości do 7 mm.

Kołnierz montażowy DN 63 CF *
Maks. moc (tryb DC) 400 W DC **
Maks. moc (tryb RF) 400 W RF **
Maks. napięcie DC 1200 V
Złącze DC/RF typ 7/16
Target:  
     kształt pierścień
     średnica 2″ (50.8 mm) ± 0.2 mm
     grubość 1 – 7 mm (magnetyczne & niemagnetyczne)
     chłodzenie pośrednie
Przepływ wody min. 1 l/min
Maks. temperatura wody na wlocie < 28 °C
Maks. ciśnienie wody 3 bar
Średnica rurki Ø6×1 mm PTFE
Materiał magnesu Samarowo-kobaltowy (SmCo)
Maks. temperatura magnesu 350°C
Wewnętrzna przysłona pneumatyczna tak
Typ przysłony kopułowa lub płaska
Moduł odchylania in situ tak, zakres: +45° ÷ -10°
Kominek tak
Typowe prędkości parowania [nm/min] dla 200 W:  
     Cu 32,84 nm/min (odległość: 160 mm; grubość targetu: 3 mm)***
     Ti 10,07 nm/min (odległość: 160 mm; grubość targetu: 3 mm)***
     Fe 9,63 nm/min (odległość: 160 mm; grubość targetu: 3 mm)***
Zintegrowany wlot gazu tak (standard VCR)
Gaz roboczy Ar
Maks. ciśnienie robocze 5×10-3 – 1×10-1 mbar
Optymalne ciśnienie robocze 5×10-3 – 5×10-2 mbar

* Inne kołnierze montażowe dostępne na życzenie
** Maksymalna moc jest zależna od materiału targetu
*** Odległości są zależne od geometrii komory i magnetronów

Źródło typu C

Źródło magnetronowe typu C jest kompatybilne z zasilaczami RF oraz DC i jest przygotowane do osadzania różnych klas materiałów: przewodników, półprzewodników i izolatorów. Źródło umożliwia tworzenie jednorodnych i drobnoziarnistych cienkich warstw o wysokiej gęstości (mała powierzchnia pustych przestrzeni), wysokim połysku (współczynnik odbicia) oraz bez uszkodzeń spowodowanych promieniowaniem i zerwanych wiązań.

Kołnierz montażowy DN 63CF lub DN 63ISO‑K dla modelu MS2/63C1,
DN 100CF lub DN 100ISO‑K dla modelu MS2/100C1
Maks. moc (tryb DC) 400 W DC **
Maks. moc (tryb RF) 400 W RF **
Maks. napięcie DC 1200 V
Złącze DC/RF typ 7/16
Target standard “Keeper”
   kształt okrągły
   średnica 2″ (50.8 mm) ± 0.2 mm
   grubość niemagnetyczny: 1-6 mm; magnetyczny: Fe 1mm, Ni 1mm
   chłodzenie pośrednie
Przepływ wody min. 1 l/min
Maks. temperatura wody na wlocie < 28 °C
Maks. ciśnienie wody 3 bar
Średnica rurki Ø6×1 mm PTFE
Materiał magnesu Neodymowo-żelazno-borowy (NdFeB)
Maks. temperatura magnesu 200 °C
Wewnętrzna przysłona pneumatyczna tak
Typ przysłony kopułowa lub płaska
Moduł odchylania in situ tak, zakres: +45° ÷ -10°
Kominek tak
   
Typowe prędkości parowania [nm/min] dla 200 W:  
   Cu 34,70 nm/min (odległość: 100 mm; grubość targetu: 3 mm)***
   Ti 6,8 nm/min (odległość: 100 mm; grubość targetu: 3 mm)***
   Fe 32,41 nm/min (odległość: 100 mm; grubość targetu: 1 mm)***
Zintegrowany wlot gazu tak (standard VCR)
Gaz roboczy Ar
Maks. ciśnienie robocze 5×10-3 – 1×10-1 mbar
Optymalne ciśnienie robocze 5×10-3 – 5×10-2 mbar

* Inne kołnierze montażowe dostępne na życzenie
** Maksymalna moc jest zależna od materiału targetu
*** Odległości są zależne od geometrii komory i magnetronów

Cechy

  • Dostępne bez lub z modułem odchylania in situ
  • Duży wybór kołnierzy montażowych
  • Komin w standardzie
  • Pneumatyczna przysłona typu kopułowego lub płaskiego
  • Chłodzenie pośrednie

Opcje

  • Kontroler masowy przepływu (MKS MF1)
  • Możliwość dostosowania długości
  • Manipulator Z
Zapytaj o produkt