Opis
W zależności od aplikacji, manipulator umożliwia oporowe grzanie substratów (podłoży, próbek) za pomocą modułu grzejnego pozwalającego osiągnąć temperaturę 1400°C (w warunkach UHV), z dokładnością +/- 1°C. Posiada stację odbiorczą nośnika substratów i umożliwia jego precyzyjne ustawienie kątowe względem przesłony liniowej. Manipulator może pracować w orientacji pionowej.
▪ Nośniki próbek: najczęściej typu Plate (rozmiar substratu do 6 cali)
▪ Zaprojektowany do osiągania wysokich temperatur
▪ Ciśnienie bazowe: do 10-11 mbar