Autoryzowany dystrybutor:

PREVAC sp. z o. o. is an authorized representative of Leybold

Zawory próżniowe

Zapytaj o produkt

Kompaktowy system MBE

Prosty i w pełni funkcjonalny kompaktowy system MBE jest aparaturą przeznaczoną do epitaksjalnego wzrostu cienkich warstw.

Znajdzie zastosowanie wszędzie tam, gdzie jest potrzeba wysokiej jakości procesu osadzania w połączeniu z małymi gabarytami urządzenia o konstrukcji pozwalającej na niskie koszty eksploatacji. Jednostka jest idealna m.in. do szybkich testów nowych materiałów i technologii w jednostkach badawczo-rozwojowych.

Wolnostojąca aparatura dla techniki epitaksji z wiązki molekularnej (MBE) nadaje się do wzrostu pierwiastków z grup III/V, II/VI oraz innych heterostruktur.

SKU: 329-1 Kategoria:

Cechy

  • Kompaktowa konstrukcja aparatury na zasadzie „podłącz i pracuj
  • Ekonomiczne rozwiązanie zaprojektowane dla laboratoriów z ograniczoną przestrzenią
  • Idealna do wzrostu cienkich warstw z pierwiastków z grup III/V, II/VI oraz innych heterostruktur
  • Do 8 komórek efuzyjnych na portach DN40CF z zasilaczami
  • 4-osiowy zmotoryzowany lub manualny manipulator z precyzyjną kontrolą temperatury: grzanie oporowe do 1000°C, grzanie EB do 1400°C, chłodzenie wodne lub ciekłym azotem LN2 (na życzenie dostępna także uproszczona wersja manipulatora)
  • Przygotowany na nośniki substratów/próbek typu Flag
  • Ciśnienie bazowe przy użyciu osłony zalewowej ciekły azotem LN2: <2×10-10 mbar
  • Komora procesowa o małej średnicy Ø 250mm z wymienną dolną flanszą
  • System pompowania (oparty na konfiguracji pompy próżni wstępnej, turbomolekularnej, jonowej i TSP)
  • Waga kwarcowa z wyposażeniem do pomiaru grubości osadzania cienkich warstw z przesuwem liniowym
  • dyfraktrometr RHEED/TorrRHEED z oprzyrządowaniem,
  • Dodatkowe, niezależne przesłony na portach 40CF
  • Komora załadowcza dla jednego nośnika próbek lub z karuzelą na 6 lub 12 nośników próbek typu Flag
  • Niezawodny i szybki liniowy system transferowania próbek z komory załadowczej do komory procesowej
  • Próżniomierze z wyposażeniem
  • Okna obserwacyjne z przesłonami
  • Układ chłodzenia z integrowaną linią przedmuchu przed wygrzewaniem aparatury
  • Układ wygrzewania aparatury
  • Regulowana i sztywna rama główna aparatury 
  • Szafa sterownicza 19″ z elektroniką

Opis

Komora procesowa zawiera 8 portów na źródła parowania, a stolik z podłożem przeznaczony jest na próbki o wymiarach 10×10 mm, z opcją obrotu i grzania próbki.

Proces osadzania cienkich warstw można realizować w szerokim zakresie temperatur (od temperatur ciekłego azotu LN2 do 1400˚C) i można go w pełni programować i kontrolować za pomocą sterownika PLC.

Komora procesowa wyposażona jest w kołnierze przyłączeniowe w standardzie UHV do podłączenia obecnych i przyszłych urządzeń, w tym:

  • do 8 komórek efuzyjnych na portach DN40CF (wysoko i niskotemperaturowe, jedno lub wielo-filamentowe),
  • manipulator substratu o dużym zakresie temperaturowym od LN2 do 1400˚C,
  • system pompowania (oparty na konfiguracji pomp próżni wstępnej, TMP, jonowych i TSP),
  • próżniomierze z wyposażeniem,
  • port wejściowy dla transferu liniowego lub walizki próżniowej,
  • wagi kwarcowe z wyposażeniem do pomiaru grubości osadzania cienkich warstw i z przesuwem liniowym,
  • dyfraktrometr RHEED/TorrRHEED z oprzyrządowaniem,
  • automatyczna lub manualna przesłona liniowa do warstw klinowych lub masek,
  • system dozowania gazów np. do procesu reaktywnego,
  • miernik strumienia cząstek,
  • okna obserwacyjne z przesłonami,
  • analizator gazów resztkowych,
  • podgrzewane okna dla urządzeń diagnostycznych.

Ostateczny wygląd i funkcjonalność zależy od konfiguracji systemu.

Układ pompujący w połączeniu z małą objętością komory procesowej pozwala na osiągnięcie w krótkim czasie ciśnienia bazowego poniżej 5×10-10 mbar.

System wyposażony jest w zaawansowane, łatwe w obsłudze zasilacze i urządzenia elektroniczne sterujące i wspomagające źródła oraz całą aparaturę badawczą.

Opcje

  • Zautomatyzowana lub manualna przesłona liniowa służącą do wykonywania warstw klinowych lub masek
  • Wewnętrzna osłona przed zanieczyszczeniem ścian komory procesowej
  • Walizka próżniowa wraz z portem wejściowym w komorze załadowczej
  • Dodatkowy system dozowania gazów np. do procesu reaktywnego
  • Analizator gazów resztkowych
  • Podgrzewane okna dla urządzeń diagnostycznych
  • Pirometr
  • Pełna kontrola procesu i aparatury przy pomocy jednostki sterującej PLC i oprogramowania Synthesium

Zastosowania

Zastosowania Typy źródeł
Komórki efuzyjne Naparowywarki

elektronowe

Krakery Źródła sublimacyjne
metale Al, Co, Ni, Cu (itp.) Mo, Pd, Ta, W, Pt
grupa III/V Be, Al, Ga, In P, As, Sb C, Si domieszkowany
grupa II/VI Be, Zn, Cd S, Se, Te
grupa IV Ge, Sn, Pb Si, Ge B, P, Sb domieszkowany
tlenki Mn, Fe, Ni, Ga, Bi, Eu
izolatory

topologiczne (TI)

Ge, Sn, Te, Bi, GeSb B Se, Te

 

Może spodoba się również…

Zapytaj o produkt




    Co chcesz znaleźć?

    wpisz właściwą frazę

    Wpisz zapytanie i naciśnij ENTER

    Szukaj