Opis
Podstawowy system rozpylania magnetronowego to kompaktowa i łatwa w obsłudze platforma do osadzania cienkich warstw, przeznaczona do laboratoriów badawczych, uniwersytetów i przemysłowych środowisk badawczo-rozwojowych. Zoptymalizowana objętość komory i wydajny system pompowania umożliwiają szybkie pompowanie, pozwalając użytkownikom na przeprowadzenie większej liczby eksperymentów w krótszym czasie.
Zaprojektowany z myślą o prostocie i niezawodności, system zawiera wszystkie niezbędne narzędzia wymagane do procesów rozpylania magnetronowego w kompaktowej obudowie. Prosta konfiguracja minimalizuje złożoność operacyjną, zapewniając jednocześnie stabilne i powtarzalne warunki osadzania.
Obsługując do trzech 2-calowych źródeł magnetronowych, system nadaje się do osadzania szerokiej gamy cienkich warstw metalicznych i złożonych, stosowanych w materiałoznawstwie, inżynierii powierzchni, elektronice, optyce i badaniach edukacyjnych. Połączenie sprawdzonej technologii próżniowej, intuicyjnej obsługi i ekonomicznej konstrukcji sprawia, że jest to idealny wybór dla laboratoriów poszukujących praktycznego rozwiązania do rozpylania bez zbędnej złożoności.
Szybki system pompowania (z ręcznym zaworem dławiącym) w połączeniu z niewielką objętością komory procesowej pozwala w krótkim czasie osiągnąć ciśnienie bazowe.
Komora procesowa wyposażona jest w kołnierze przyłączeniowe w standardzie HV do podłączenia obecnych i przyszłych urządzeń, w tym:
- do 3 źródeł magnetronowych 2”,
- manipulator podłoża,
- systemu pompowania,
- osłona przed zanieczyszczeniem ścian komory procesowej,
- wagi kwarcowej,
- okna obserwacyjnego z przesłoną,
- próżniomierze,
- pirometru.
