PRIMS kompaktowy system sputteringu magnetronowego

Podstawowy system rozpylania magnetronowego to kompaktowa i łatwa w obsłudze platforma do osadzania cienkich warstw, przeznaczona do laboratoriów badawczych, uniwersytetów i przemysłowych środowisk badawczo-rozwojowych. Zoptymalizowana objętość komory i wydajny system pompowania umożliwiają szybkie pompowanie, pozwalając użytkownikom na przeprowadzenie większej liczby eksperymentów w krótszym czasie.

Zaprojektowany z myślą o prostocie i niezawodności, system zawiera wszystkie niezbędne narzędzia wymagane do procesów rozpylania magnetronowego w kompaktowej obudowie. Prosta konfiguracja minimalizuje złożoność operacyjną, zapewniając jednocześnie stabilne i powtarzalne warunki osadzania.

Obsługując do trzech 2-calowych źródeł magnetronowych, system nadaje się do osadzania szerokiej gamy cienkich warstw metalicznych i złożonych, stosowanych w materiałoznawstwie, inżynierii powierzchni, elektronice, optyce i badaniach edukacyjnych. Połączenie sprawdzonej technologii próżniowej, intuicyjnej obsługi i ekonomicznej konstrukcji sprawia, że ​​jest to idealny wybór dla laboratoriów poszukujących praktycznego rozwiązania do rozpylania bez zbędnej złożoności.

Szybki system pompowania (z ręcznym zaworem dławiącym) w połączeniu z niewielką objętością komory procesowej pozwala w krótkim czasie osiągnąć ciśnienie bazowe. 

Komora procesowa wyposażona jest w kołnierze przyłączeniowe w standardzie HV do podłączenia obecnych i przyszłych urządzeń, w tym: 

• do 3 źródeł magnetronowych 2”, 
• manipulator podłoża, 
• systemu pompowania, 
• osłona przed zanieczyszczeniem ścian komory procesowej,
• wagi kwarcowej, 
• okna obserwacyjnego z przesłoną, 
• próżniomierze, 
• pirometru.

• Konstrukcja typu „plug&work”.
  Kompaktowe i łatwe w użyciu mobilne urządzenie do szybkiego osadzania cienkowarstwowego i oceny procesu powlekania
  Komora procesowa z dużymi drzwiami próżniowymi dostępnymi od przodu, umożliwiającymi wygodną wymianę celu i substratu
  Wyposażony w źródła rozpylania magnetronowego PREVAC MS2 A 100 ISO-K i nowatorski zasilacz M600DC-PS
  Stolik substratowy dla próbek o średnicy do 2″
  Średnica komory procesowej: Ø 355 mm
  Trzy porty dla 2-calowych źródeł rozpylania magnetronowego
  Wziernik z przesłoną ochronną do obserwacji procesu
  Wewnętrzna tarcza ochronna minimalizująca zanieczyszczenie krzyżowe
  Ciśnienie bazowe w zakresie 10⁻⁷ mbar
  Szybki system pompowania ze zintegrowanymi manometrami próżniowymi
  Automatyczne dozowanie argonu poprzez kontroler masowego przepływu (MFC)
  Ręczny zawór dławiący do regulacji ciśnienia procesowego
  Sztywna rama zamontowana na kółkach dla łatwego przemieszczania w laboratorium

• Podgrzewanie substratu do 600 °C lub 800 °C
  Możliwość pracy dwóch źródeł magnetronowych jednocześnie (z ang. Co-deposition)
  
• Obrót stolika z próbką/substratem
• DC lub RF sputtering
  
• Waga kwarcowa i urządzenie elektroniczne do pomiaru szybkości osadzania
• Dodatkowe dozowanie gazu poprzez precyzyjny zawór naciekowy
• Pirometr
  Możliwość przeprowadzenia procesu z oprogramowania