Źródło magnetronowe | target 2-calowy
Źródło magnetronowe do nanoszenia cienkich warstw o wysokiej jednorodności w procesie napylania w polu magnetycznym. Przeznaczone do targetów o średnicy 2 cali.
W zależności od wymaganych warunków procesu napylania oferujemy 3 rodzaje źródeł: typ A, B i C.
Wszystkie typy są w pełni kompatybilne z naszym zasilaczem M600DC-PS, a także wszystkimi innymi zasilaczami DC, RF i pulsacyjnymi DC dostępnymi na rynku.
Źródło typu A
Źródło magnetronowe typu A służy do nakładania cienkich warstw o dużej jednorodności. Źródło jest przystosowane do pracy w warunkach UHV. Dzięki zintegrowanemu systemowi odchylania in situ może być stosowane zarówno w komorach o standardowej, jak i niestandardowej geometrii. Dzięki zastosowaniu przysłony o konstrukcji kopułowej minimalizujemy przestrzeń potrzebną do jej otwarcia.
| Kołnierz montażowy | DN 63 CF, DN 100 ISO-K * |
| Maks. moc (tryb DC) | 400 W DC ** |
| Maks. moc (tryb RF) | 400 W RF ** |
| Maks. napięcie DC | 1200 V |
| Złącze DC/RF | typ 7/16 |
| Target: | |
| kształt | okrągły |
| średnica | 2″ (50.8 mm) ± 0.2 mm |
| grubość | 1 – 6 mm |
| chłodzenie | pośrednie |
| Przepływ wody | min. 1 l/min |
| Maks. temperatura wody na wlocie | < 28 °C |
| Maks. ciśnienie wody | 3 bar |
| Średnica rurki | Ø6×1 mm PTFE |
| Materiał magnesu | Neodymowy borek żelaza (NdFeB) |
| Maks. temperatura magnesu | 200°C |
| Wewnętrzna przysłona pneumatyczna | tak |
| Typ przysłony | kopułowa lub płaska |
| Moduł odchylania in situ | tak, zakres: +45° ÷ -10° |
| Kominek | tak |
| Typowe prędkości parowania [nm/min] dla 200 W: | |
| Cu | 40,87 nm/min (odległość: 150 mm; grubość targetu: 3 mm)*** |
| Ti | 10,82 nm/min (odległość: 150 mm; grubość targetu: 3 mm)*** |
| Fe | 15,94 nm/min (odległość: 150 mm; grubość targetu: 1 mm)*** |
| Zintegrowany wlot gazu | tak (standard VCR) |
| Gaz roboczy | Ar |
| Maks. ciśnienie robocze | 5×10-3 – 1×10-1 mbar |
| Optymalne ciśnienie robocze | 5×10-3 – 5×10-2 mbar |
* Inne kołnierze montażowe dostępne na życzenie
** Maksymalna moc jest zależna od materiału targetu
*** Odległości są zależne od geometrii komory i magnetronów
Źródło typu B
Źródło magnetronowe typu B służy do nakładania cienkich warstw o dużej jednorodności. Źródło przystosowane jest do pracy w warunkach UHV. Źródło przeznaczone jest do napylania materiałów magnetycznych i ferromagnetycznych. Może pracować z targetami o grubości do 7 mm.
| Kołnierz montażowy | DN 63 CF * |
| Maks. moc (tryb DC) | 400 W DC ** |
| Maks. moc (tryb RF) | 400 W RF ** |
| Maks. napięcie DC | 1200 V |
| Złącze DC/RF | typ 7/16 |
| Target: | |
| kształt | pierścień |
| średnica | 2″ (50.8 mm) ± 0.2 mm |
| grubość | 1 – 7 mm (magnetyczne & niemagnetyczne) |
| chłodzenie | pośrednie |
| Przepływ wody | min. 1 l/min |
| Maks. temperatura wody na wlocie | < 28 °C |
| Maks. ciśnienie wody | 3 bar |
| Średnica rurki | Ø6×1 mm PTFE |
| Materiał magnesu | Samarowo-kobaltowy (SmCo) |
| Maks. temperatura magnesu | 350°C |
| Wewnętrzna przysłona pneumatyczna | tak |
| Typ przysłony | kopułowa lub płaska |
| Moduł odchylania in situ | tak, zakres: +45° ÷ -10° |
| Kominek | tak |
| Typowe prędkości parowania [nm/min] dla 200 W: | |
| Cu | 32,84 nm/min (odległość: 160 mm; grubość targetu: 3 mm)*** |
| Ti | 10,07 nm/min (odległość: 160 mm; grubość targetu: 3 mm)*** |
| Fe | 9,63 nm/min (odległość: 160 mm; grubość targetu: 3 mm)*** |
| Zintegrowany wlot gazu | tak (standard VCR) |
| Gaz roboczy | Ar |
| Maks. ciśnienie robocze | 5×10-3 – 1×10-1 mbar |
| Optymalne ciśnienie robocze | 5×10-3 – 5×10-2 mbar |
* Inne kołnierze montażowe dostępne na życzenie
** Maksymalna moc jest zależna od materiału targetu
*** Odległości są zależne od geometrii komory i magnetronów
Źródło typu C
Źródło magnetronowe typu C jest kompatybilne z zasilaczami RF oraz DC i jest przygotowane do osadzania różnych klas materiałów: przewodników, półprzewodników i izolatorów. Źródło umożliwia tworzenie jednorodnych i drobnoziarnistych cienkich warstw o wysokiej gęstości (mała powierzchnia pustych przestrzeni), wysokim połysku (współczynnik odbicia) oraz bez uszkodzeń spowodowanych promieniowaniem i zerwanych wiązań.
| Kołnierz montażowy | DN 63CF lub DN 63ISO‑K dla modelu MS2/63C1, DN 100CF lub DN 100ISO‑K dla modelu MS2/100C1 |
| Maks. moc (tryb DC) | 400 W DC ** |
| Maks. moc (tryb RF) | 400 W RF ** |
| Maks. napięcie DC | 1200 V |
| Złącze DC/RF | typ 7/16 |
| Target | standard „Keeper” |
| kształt | okrągły |
| średnica | 2″ (50.8 mm) ± 0.2 mm |
| grubość | niemagnetyczny: 1-6 mm; magnetyczny: Fe 1mm, Ni 1mm |
| chłodzenie | pośrednie |
| Przepływ wody | min. 1 l/min |
| Maks. temperatura wody na wlocie | < 28 °C |
| Maks. ciśnienie wody | 3 bar |
| Średnica rurki | Ø6×1 mm PTFE |
| Materiał magnesu | Neodymowo-żelazno-borowy (NdFeB) |
| Maks. temperatura magnesu | 200 °C |
| Wewnętrzna przysłona pneumatyczna | tak |
| Typ przysłony | kopułowa lub płaska |
| Moduł odchylania in situ | tak, zakres: +45° ÷ -10° |
| Kominek | tak |
| Typowe prędkości parowania [nm/min] dla 200 W: | |
| Cu | 34,70 nm/min (odległość: 100 mm; grubość targetu: 3 mm)*** |
| Ti | 6,8 nm/min (odległość: 100 mm; grubość targetu: 3 mm)*** |
| Fe | 32,41 nm/min (odległość: 100 mm; grubość targetu: 1 mm)*** |
| Zintegrowany wlot gazu | tak (standard VCR) |
| Gaz roboczy | Ar |
| Maks. ciśnienie robocze | 5×10-3 – 1×10-1 mbar |
| Optymalne ciśnienie robocze | 5×10-3 – 5×10-2 mbar |
* Inne kołnierze montażowe dostępne na życzenie
** Maksymalna moc jest zależna od materiału targetu
*** Odległości są zależne od geometrii komory i magnetronów
Cechy
- Dostępne bez lub z modułem odchylania in situ
- Duży wybór kołnierzy montażowych
- Komin w standardzie
- Pneumatyczna przysłona typu kopułowego lub płaskiego
- Chłodzenie pośrednie
Opcje
- Kontroler masowy przepływu (MKS MF1)
- Możliwość dostosowania długości
- Manipulator Z
Galeria
